Powered by Made-in-China.com
Target Emas Sibar
US$10,00
1 Bagian
Profil produk
Tipe
Target LogamBentuk
Planar, Roundkemurnian
disesuaikanTidak. Model.
17052311warna
emassertifikat
iso001:2008, laporan pengujian ketigakelas
kelas industripenggunaan
lapisan film tipisaplikasi
proses mulusPaket Transportasi
Vacuum Package Inside, Wooden Package OutsideSpesifikasi
disesuaikanMerek Dagang
ettAsal
JiangyinKode HS
8486909900Kapasitas Produksi
5000 potong/tahunProfil Perusahaan
Jiangyin Entret Coating Technology Co., Ltd.Jiangsu, Cina
Jenis Usaha: Produsen/Pabrik, Perusahaan Perdagangan
Kirim Permintaan
*Untuk:Jiangyin Entret Coating Technology Co., Ltd.
Jiangyin Entret Coating Technology Co., Ltd.*Konten:
Balasan dari pemasok akan dikirim ke email terdaftar Anda
Anda mungkin juga menyukai
Sasaran Emas Au untuk Pelapisan Sputtering Magnetron
US$380.00-980.00
1 Bagian(MOQ)
Sasaran Sputtering Emas Kemurnian Tinggi untuk Film Tipis
US$380.00-980.00
1 Bagian(MOQ)
Bahan Sasaran Sputtering Emas Murni Berkualitas Tinggi
US$1,200,000.00
1 Bagian(MOQ)
Laboratorium Sasaran Sputtering Emas Sasaran Au Khusus
US$50,000.00
1 Bagian(MOQ)
Kualitas Tinggi 99.99% Emas Target untuk Teknologi Film Tipis Sputtering Vakum
US$230.00-500.00
1 Atur(MOQ)
Bahan Sasaran Sputtering Emas Kemurnian Tinggi Pemrosesan Kustom
US$350,000.00
1 Bagian(MOQ)
Sasaran Sputtering Emas Sasaran Au
US$1,850,000.00
1 Bagian(MOQ)
99.99 % Kemurnian Emas Au Target untuk Pelapisan Sputtering Magnetron
US$230.00-500.00
1 Atur(MOQ)
Sasaran Keramik Poli Silikon untuk Sasaran Sputtering Fotovoltaik Surya
US$35.00-50.00
1 kg(MOQ)
Target Sputtering Rhenium Murni Tinggi 99.99%, Target Bulat Logam Re
US$1,000.00-4,000.00
1 Bagian(MOQ)
Target Monokristalin Silikon Mono-Si untuk Target Sputtering Fotovoltaik Surya Ponsel Mobile
US$35.00-75.00
1 kg(MOQ)
3mm Target Ruthenium Tebal, Target Sputtering Ru
Dapat dinegosiasikan
1 Bagian(MOQ)
Pasokan Target Sputtering Anoda Putar Tungsten Rhenium Hitam
US$142.00-168.00
30 Potong(MOQ)
99.95% Sasaran Sputtering Krom Murni Sasaran Krom Kemurnian Tinggi untuk Pelapisan PVD
US$30.00-1,000.00
1 Bagian(MOQ)
99.95% Target Sputtering Logam Tantalum Murni Tinggi untuk Pelapisan Film Tipis
US$700.00-1,000.00
1 Bagian(MOQ)
Sasaran Sputtering Paduan Tungsten Nikel Persegi atau Persegi Panjang
US$500.00-1,000.00
1 Bagian(MOQ)
Sasaran Sputtering Paduan Nikel Kromium Berkualitas Tinggi untuk Pelapisan
US$35.00-40.00
1 Bagian(MOQ)