Sistem Pelapisan dan Pengembangan Semikonduktor Tel Clean Track™ Lithius

Kami dapat menyediakan mesin gelatinisasi, mesin etsa, sistem pelapisan dan pengembangan, atau sistem pelapisan dan pengembangan seragam, peralatan deposisi lapisan tipis, mesin implantasi ion, peralatan oksidasi/difusi/perlakuan panas (annealing), yang juga dikenal sebagai peralatan perlakuan panas.

Transfer pola: Mirip dengan proyektor, pola rangkaian pada masker diproyeksikan ke permukaan wafer silikon yang dilapisi dengan fotoresist melalui cahaya. Mikrofabrikasi: Menggunakan cahaya ultraviolet atau cahaya ultraviolet ekstrem, fotoresist mengalami reaksi kimia, dan setelah pengembangan, garis-garis halus berskala nano diukir pada wafer.

Mesin gelatinisasi menggunakan prinsip proyeksi optik untuk memperkecil pola rangkaian dan memaparkannya ke wafer silikon yang dilapisi dengan fotoresist. Ini adalah peralatan inti dalam pembuatan chip. Esensinya adalah mencapai transfer yang presisi dari grafik berskala nano melalui penggunaan sumber cahaya, masker, dan sistem optik yang presisi.

Tampilan dan Sensor: Pembuatan elektroda untuk tampilan panel datar (LCD/OLED), sensor layar sentuh, dan sistem mikro-elektromekanis (MEMS).

Presisi mesin gelatinisasi terbatas oleh panjang gelombang sumber cahaya dan apertur numerik sistem optik. Selain itu, sumber cahaya EUV perlu menghasilkan plasma melalui penembakan laser pada tetesan timah, yang merupakan tantangan teknis yang sangat sulit.